Tosoh Silica东曹硅化工株式会社 Nipsil KP二氧化硅Tosoh Silica东曹硅化工株式会社 Nipsil KP
产品介绍:
Nipsil KP是Tosoh Silica东曹硅化工株式会社生产的高纯度、低钠的二氧化硅产品。它具有高透明度和良好的流动性,适用于精密玻璃基板的制造,如液晶显示器、集成电路等高科技电子产品。Nipsil KP具有优异的化学稳定性和热稳定性,能够满足各种复杂工艺条件的要求。
产品特性:
- 高纯度:Nipsil KP的纯度极高,含有较少的杂质和钠含量,符合高精度电子产品的要求。
- 透明度高:Nipsil KP具有高透明度,可以更好地透过光线,适用于光学元件和显示器的制造。
- 流动性好:Nipsil KP的流动性较好,容易在生产过程中进行加工和混合。
- 化学稳定性好:Nipsil KP具有优异的化学稳定性,能够耐受各种化学试剂和腐蚀性环境。
- 热稳定性好:Nipsil KP能够在高温下保持稳定的性能,适用于高温加工和制造精密玻璃基板的工艺条件。
应用行业:
- 液晶显示器行业:用于制造液晶显示器的精密玻璃基板,提高显示器的画质和性能。
- 集成电路行业:用于制造集成电路的封装材料和基板材料,提高集成电路的性能和可靠性。
- 其他行业:还可应用于光学元件、镜头、涂料、塑料、橡胶等行业中作为填料和增强剂。
产品参数:
- 主要成分:高纯度二氧化硅
- 外观:白色或近白色粉末或颗粒
- 纯度:≥99.9%
- 钠含量:≤0.01%
- 透明度:≥95%
- 流动性:≤0.5%
- 密度:约2.0-2.2g/cm³
- 加热减量:≤0.2%
- 粒径分布:≤10μm
推荐建议:
- 在使用Nipsil KP之前,建议先进行小样试验,评估其性能和适用性。
- 为保证最佳性能,建议在恒温恒湿的环境下进行加工和混合。
- 在运输和存储过程中,应避免长时间暴露在高温环境中。