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Nipsil KP是Tosoh Silica东曹硅化工株式会社生产的高纯度、低钠的二氧化硅产品。它具有高透明度和良好的流动性，适用于精密玻璃基板的制造，如液晶显示器、集成电路等高科技电子产品。Nipsil KP具有优异的化学稳定性和热稳定性，能够满足各种复杂工艺条件的要求。

产品特性：

1. 高纯度：Nipsil KP的纯度极高，含有较少的杂质和钠含量，符合高精度电子产品的要求。
2. 透明度高：Nipsil KP具有高透明度，可以更好地透过光线，适用于光学元件和显示器的制造。
3. 流动性好：Nipsil KP的流动性较好，容易在生产过程中进行加工和混合。
4. 化学稳定性好：Nipsil KP具有优异的化学稳定性，能够耐受各种化学试剂和腐蚀性环境。
5. 热稳定性好：Nipsil KP能够在高温下保持稳定的性能，适用于高温加工和制造精密玻璃基板的工艺条件。

应用行业：

1. 液晶显示器行业：用于制造液晶显示器的精密玻璃基板，提高显示器的画质和性能。
2. 集成电路行业：用于制造集成电路的封装材料和基板材料，提高集成电路的性能和可靠性。
3. 其他行业：还可应用于光学元件、镜头、涂料、塑料、橡胶等行业中作为填料和增强剂。

产品参数：

1. 主要成分：高纯度二氧化硅
2. 外观：白色或近白色粉末或颗粒
3. 纯度：≥99.9%
4. 钠含量：≤0.01%
5. 透明度：≥95%
6. 流动性：≤0.5%
7. 密度：约2.0-2.2g/cm³
8. 加热减量：≤0.2%
9. 粒径分布：≤10μm